折射率高1.93-2.01，化学稳定性能，是一种优质、价廉的乳浊剂，被广泛用于各种建筑陶瓷、卫生陶瓷、日用陶瓷、一级工艺品陶瓷等的生产中，在陶瓷釉料的加工生产中，使用范围广，应用量大。硅酸锆之所以在陶瓷生产中得以广泛应用，还因为其化学稳定性好，因而不受陶瓷烧成气氛的影响，且能显著改善陶瓷的坯釉结合性能，提高陶瓷釉面硬度。硅酸锆也在电视行业的彩色显像管、玻璃行业的乳化玻璃、搪瓷釉料生产中得到了进一步的应用。硅酸锆的熔点高：2500摄氏度，所以在耐火材料、玻璃窑炉锆捣打料、浇注料、喷涂料中也被广泛应用。高性能硅酸锆具备增白和稳定两个条件时，在硅酸锆粉体、粒子形貌、粒径范围、介质中分散性能以及砖坯或釉面应用后乳浊性偏析等性能都优于常规硅酸锆。硅酸锆的增白作用是因其在陶瓷烧成后形成斜锆石等，从而对入射光波形成散射，这种散射一般称之为大粒子散射或米氏散射(MieScattering)。结合理论计算及粉体生产实际情况，将高性能硅酸锆的d50值控制在1.4um以下、d90控制在4.0um以下(以日本产激光颗粒分析仪测定值为准)，将会产生最佳乳浊增白效果。硅酸锆的增白作用中，集中的粒径范围很重要，要求在硅酸锆的研磨过程中尽可能做到颗粒的窄分布。

硅酸锆生产中有许多杂质，这些杂质可分为：1、有害杂质Fe2O3、TiO2和Al2O3，一般的硅酸锆生产企业都有能力将铁杂质去除，但TiO2和Al2O3去除难度较大;2、基本无害杂质SiO2和HfO2(氧化铪)，这种杂质是指在含量范围内基本无害，而超过这一范围不但有害，而且对陶瓷釉面及坯体产生极大影响，如SiO2越标时釉面易出现后期炸裂，极易达不到国家检验标准;3、微量碱杂质Na2O、K2O和P2O5，这些杂质因为其含量很少，且属于有助熔作用的氧化物，即使有时超标，也不会对产品构成很大威协;4、放射性杂质Ra226、Th232、K40，硅酸锆和萤石是放射性较高的原料，长石、砂、石粉等次之。